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LTCC埋置电容分析与设计

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第五章LTCC埋置电容分析与设计
在微波电路中,无源元件在整个电路系统中占有很大的比例,如果这些元件与有源电路都安装或者制作在微波电路基板的表面,那就大大增加了基板的面积,同时也增加了制作成本。而且由于是与有源电路制作在同一层,对整个电路性能的影响也比较大,目前技术发展的方向是尽可能多的把无源元件嵌入到基板内部,而LTCC技术采用内埋置的方法,将电容电感等无源部分埋置在基板内部,与表面的有源期间用金属层隔离,经通孔与表面的电路相连接60?66,大大减小了整个模块的体积,增加了可靠性,充分体现了 MCM技术的优势。

5.1埋置LTCC电容元件

5.1.1埋置LTCC电容的三维结构

MCM技术之中,电容的实现形式有多种。第一种类型是传统的平板电容,为金属一绝缘体一金属的结构,上下极板之间可以通过通孔进行连接,主要要求极板之间的电容介质具有较好的平整度,才能有准确的电容值,因此在制作较小的电容值时,准确度较低。第二种类型包括两个电容通过一个共用的金属盘级连起来。用这种形式的电容可以减少寄生参量的影响。第三种电容形式是扇形短路电容,通常用在局部精确接地和设计低通滤波器。还有一种电容就是交指电容,这种电容是在同一层金属层进行电路实现,电容值对于间隙之间的变化非常敏感。在目前LTCC内埋置电容元件的设计上,主要有MIM(Mental-Insulator-Mental)VIC(Vertically-Interdigitated-Capacitor两种结构,分别如图5-15-2所示。

S5-2内埋式?IC电容器

在表5-1中比较了上述这两种结构电容的各参量,在相同的有效电容值下,
VIC结构电容在Q值、SRF等方面略好于MIM,而且所占面积小,然而VIC的层 数较多67。在LTCC技术中,一般都采用VIC结构的形式68,从工艺上来说,这 种电容在LTCC基板中制作方便,可靠性高,损耗较小,这从下表5-1的比较就可 看出。



表头1不同结构的内埋置电容特性比较

结构形式

MIM

VIC

占面积

(在相同有效电容值下)

SRF

略低

(在相同有效电容值下)

Q

略低

(在相同有效电容值下)

所需的层数


5.1.2电容模型参数提取
电容设计中最重要的参数之一是静电电容,静电容值取决于电容介质材料的介电常数、厚度和电极面积。采用图4.4所示的单n拓扑结构,建立如图5.3所示的内埋置电容等效电路模型来提取参数,此等效电路优点为电路简单、参数提取容易,可减少

设计所需的时间,但缺点是该模型只适用于较窄的频宽。

5-3为内埋置电容元件的n型等效电路,其中L为等效串联电感,表示电容
引出端部分感性电抗;R为等效串联电阻,表示元件的损耗;C1C2表示平行金属板对地寄生电容。内埋电容元件中由于电容和寄生的电感形成自我谐振,限定了其作为电容功能的频率范围,其中LC3构成该电路模型中的串联自我谐振频

SRF

0—oPortl Poit2

Ci

c2

5-3LTCC电容元件等效电路图

用导纳参数计算,图5-3中各参数的提取可由(5-1)、(5-2)、(5-3)、(5-4)、

5-5)式获得。其中,为Im[1Z1o]=0时的频率,即为LC仔发生串联谐SRF■1 eff
振的频率。



C

Im[Z (?)]

(5-1)

(5-2)

(5-3)

(5-4)

i

eff

R Re[Z (e)]二一Re[


C =
i e

1
Im[Y (e)] Im[Y ()+ Y (e)]

1 = 11 12
e

Im[Y (e)] Im[Y (e) + Y (e)]
2 ______ — ________22 12 ________________ e e

(5-5)

SRFeff

对于接地电容,可假设2端口接地,则C2短路,等效电路如图5-4所示。C1为电容引出端的对地寄生电容,C1RLCeff共同形成并联谐振,但C1远小于Ceff,从而通常可以忽略。

5-4内埋置单端电容元件等效电路图

用导纳参数计算,忽略C1,图5-4中各参数的提取可由(5-6)、(5-7)、(5-8)式

获得:

C

Im[Y (e)]
11

(5-6)

(5-7)

eff

R Re[X/Y (e)
11

e 2 x C

(5-8)

SRFeff

5.2LTCC电容模型设计

5-5是设计的一个5层电容的模型示意图,尺寸大小为



10mmX10mmX0.5mm,总共为6层介质,另外还有5层金属极板,面积为3mmX3mm,两端输入输出采用共面线方式,线宽已经匹配50

5-55层电容模型图

经过仿真,得到模型的相关参数如下图5-5(a)-(d),其中(a)S曲线,(b)是提取的有效电容数值,(c)是幅值,(d)Q值。从图中可以看出电容有效值在接近第一自谐振频率(2.03GHz)时急剧上升,在超过这一频率时下降为负,这是由于电容在整体已经呈现感性了。Q值是一个随频率变化的函数,在1.25GHz处最大是84,2.03GHz处为零,过了之后呈现负值。



09 Apr 2007

Ansoft Corporation

10:13:44

Y1 —0—

02 Apr 2007

Ansoft Corporation

17:40:49

ql

XY Plot 3

100.00

XY Plot 4

ang_deg(SQA^veP

100.00

HFSSDesignl

Setupl : Sweepl

HFSSDesignl

Setupl : Sweep-!

0.00

-100.00

-50.00

-200.00

Freq [GHz]

Freq [GHz]

5-74层电容的模型示意图,图5-8(a)-(d)是它的各种参数曲线图,可以看

02 Apr 2007

Ans oft Corporation

17:41:16

YdBi:;
S(yVavePort1
Setupl : Sweepl

dB(S(Wa?ePort2
Setupl : Sweepl

XY Plot 1
HFSSDesignl

Freq[GHz]



02 Apr 2007

Ansoft Corporation

17:40:04

cefl

XY Plot 2

HFSSDesignl

Setup! : Sweepl

Freq[GHz]

02 Apr 2007

Ansoft Corporation

15:37:14

Y1Y

X? Plot 5

ang_deg(S(Wave

HFSSDesignl

Setupl : Sweepl

Freq[GHz]

27 Mar 2007

Ansoft Corporation

15:14:00

:A

XY Plot 2

HFSSDesignl

Setupl : Sweepl

Freq[GHz]

5-84层电容仿真曲线

5-93层电容的模型示意图,图5-10(a)-(b)是它的各种参数曲线图,可以看出第一谐振频率上升,最大Q值也上升,在1.63GHz处为98



5-93层电容模型图

12:00:30 09 Apr 2007 Ansoft Corporatioi
XY Plot 1 HFSSDesignl

L

r|f|
































































_





























































-























-

-




















--

--u-


-


-























-























-






















-














/








-

























-























-


-












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-


















































-











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-










zz
























-















-







J


















-





>

1nnn

o.c

1.C 0

2.C Zi

[G

]

3.i

3

4 J

i

5.0 0

Fre


?1—0— dB(S(WavePort1 ?

Setupl : Sweepl

Y1——I—
dB(S(WavePort2?

Setupl : Sweepl




09 Apr 2007

Ansoft Corporation

12:00:53

?1—0—

XY Plot 2

ang_deg(S(Wave

HFSSDesignl

Setupl : Sweepl



09 A|>r 2007

Ans oft Corporation

12:01:19

ceff

X? Plot 3

HFSSDesignl

Setup1! : Sweep!

Freq[GHz]



09 Api 2007

Ans oft Corporation

12:01:31

XY Plot 4
HFSSDesignl

1 Y C|1
Setup1! : Sweep-!





































































/





\













































/ /





\

\











































/







\

















































































5 fn'i

l ri nri_























\























/

--











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/

















/































/







































\































/































/



















/





















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/























































































































耳门|-||-|

.■inn nn_

























































/



















































/



















































1



































































































J. 0

-1.C 0

2.0 J

Fre

[G
Hz]

3.C

4

0

s.o'o

.


5-10 3层电容仿真曲线

5.3LTCC电容设计实例
本次一共设计加工10个电容。加工好的LTCC电容照片如下图所示,左边是加工的基片照片,右边是安装好腔体的照片。本来在设计过程中还有一种极板面积为3mmx6mm的电容,结果测试时候发现出现了全通的情况,经分析后认为有可能是通孔打穿所致,而且由于模型仿真和3mmx3mm完全一样,所以未列入本文。





——
:





1

RefPos







1
2:

2.6586 4.5032 5 0000

70 GHz
15 GHz )0 GHs

3.180 dB 15.25 dB
s snsdR








____
>1:

4.5830

30 GHz

-37.59 dB














-—

A


——?—'






___



-

1



一??一

I









J










I
































Stop5.00000 GHz

C

5-12电容测试曲线

由测试图可以看出,和仿真结果相比的话两者还是比较吻合的,这就证明单n 模型还是能够反映电容的特性的,在微波低端是符合分析结果的。

随着极板层数的增加,第一谐振频率下降,最大Q值增加。Q值的大小主要 由电容元件的损耗R所决定,电容极板增加,其R值必然上升,因此其最大Q值 也要相应增大。电容的有效电容值也和R有关,R越大,有效电容也越大 电路中实际使用



时,电容一般作为去耦电容或电源的偏置电容,其电容值一般在几十甚至几百pF,为了达到这样的电容值,单纯增大极板的面积或增加极板数目已不可能,需要采用高K材料。LTCC系统的电容介电常数从3.9?200,可以根据需要的电容值和电路布局进行选择。

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